判断题光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
判断题半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）
判断题离子源是产生离子的装置。（）
判断题液相外延的原理是饱和溶液随着温度的降低产生过饱和结晶。（）
判断题抛光片的电学参数包括电阻率，载流子浓度，迁移率，直径、厚度、主参考面等。（）
