判断题在版图绘制时绘制源漏区域的掺杂层图层时可以绘制一个完全包围有源区的图形,并可以和多晶层交叠,而不是分别在源、漏各绘制一个掺杂层,其主要原因是因为在工艺中采用自对准工艺。
判断题大规模集成电路一般都采用CMOS电路的原因是因为这种电路的理论静态功耗为0。
判断题多晶电阻是模拟版图设计中使用的常用电阻。
判断题库的名称不是建库要素之一。
判断题某硅栅工艺设计中,与孔1(接触孔)没有连接关系的图层是多晶层。