判断题双膜理论中在膜层以外的气、液两相主体中，由于流体充分湍动，吸收质浓度是不均匀的。
判断题吸附平衡关系由吸附过程的方向和极限决定的，是吸附过程的基本依据。
判断题CVD 装置通常可以由气源控制部件、沉积反应室、沉积温控部件、真空排气和压强控制部件等部分组成。
判断题反应气体或生成物通过边界层，是以扩散的方式来进行的，而使气体分子进行扩散的驱动力，则是来自于气体分子局部的浓度梯度。
判断题CVD 工艺希望反应气体以湍流的形式流动。
