问答题简述二极直流溅射、偏压溅射、三极或四极溅射、射频溅射、磁控溅射、离子束溅射结构及原理?
问答题简述溅射机理?如何提高溅射率?
问答题简述点蒸发和小平面蒸发源特性,如何改善蒸镀存在的膜厚均匀性问题。
问答题如何解决蒸发过程中的分馏问题?
问答题按测量原理真空计可分几种,各自的定义及特点?