化学镀膜是指在还原剂的作用下，使金属盐中的金属离子还原成原子，在基片表面沉积的镀膜技术，又称无电源电镀。化学镀不加电场、直接通过化学反应实现薄膜沉积。 化学镀膜的还原反应必须在催化剂的作用下才能进行，且沉积反应只发生在基片表面上。
问答题试述薄膜与衬底附着的机理及对附着力的影响。
问答题什么是低压CVD和等离子CVD？各有何优点？
问答题简述CVD的必要条件？
问答题简述离子镀膜的优缺点？
问答题简述二极直流溅射、偏压溅射、三极或四极溅射、射频溅射、磁控溅射、离子束溅射结构及原理？
