环境温度的变化可影响硅片的涂胶均匀性，通常将环境温度设定于（）。……

单项选择题光刻胶对人部分可见光敏感，但对（）光不敏感。

A.黄
B.红
C.紫
D.蓝

单项选择题高压汞灯作为紫外光源被使用有常规i线步进光刻机上，那么i线的UV光波长为（）

A.416nm
B.405nm
C.365nm
D.740nm

单项选择题坚膜烘焙在加热平板上进行，温度控制在（）。

A.100℃～150℃
B.130℃～200℃
C.110～130℃
D.85～120℃

单项选择题在显影过程中，对于正性抗蚀剂，显影液的使用要求是（）。

A.显影液可以使用丁酮
B.显影液可以使用甲苯
C.显影液可以使用丙酮
D.显液可以使用甲基异丁基酮和异丙醇的1：1混合液

单项选择题当需要刻蚀的图形尺寸大于3um时，一般使用（）。

A.湿法刻蚀
B.溅射刻蚀
C.等离子体刻蚀
D.反应离子刻蚀