A.10~15min B.20min以上 C.1~16h
单项选择题硅Sirtl腐蚀剂的腐蚀时间是()
单项选择题半导体硅的常用腐蚀剂H2O2液体试剂的浓度是()
A.70%B.49%C.30%
单项选择题半导体硅的常用腐蚀剂HNO3液体试剂的浓度是()
单项选择题半导体硅的常用腐蚀剂HF液体试剂的浓度是()
判断题直流四探针笔法测量电阻率时,首先将样品测试面进行研磨或喷砂处理,以增大表面复合,减少少数载流子注入的影响。