问答题采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜?这层膜的优点是什么?
问答题质量输运限制CVD和反应速度限制CVD工艺的区别?
问答题名词解释:CVD、LPCVD、PECVD、VPE、BPSG。(将这些名词翻译成中文并做出解释)。
问答题例举高k介质和低k介质在集成电路工艺中的作用。
问答题描述CVD反应中的8个步骤。