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问答题

简答题 PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻,每次光刻目的是什么?

【参考答案】

需要六次光刻
第一次—N+隐埋层扩散孔光刻;
第二次—P+隔离扩散孔光刻;
第三次—P型基区扩散孔光刻;
第四次—N+发射区扩散孔光刻;
第五次—引线接触孔光刻;
第六次—金属化内连线光刻。