填空题用DRACULA做layout的LVS检查时,首先要把schematic转成CDL的netlist,并对这个netlist做()
填空题建立一个新的layout library时需要Compile a new techfile,或者(),或Don’t need a techfile。
填空题在layout编辑命令中,Hierachy命令一栏下,有两个相反的操作命令他们分别是make cell和()
填空题在P型衬底上画nmos器件时需要在P型衬底上加(),并用金属线把这个()与P型衬底内的()电位相连接。
填空题在nwell上画pmos器件时需要在nwell上加(),并用金属线把这个()与nwell内的()电位相连接。
填空题用Cadence软件设计集成电路版图的输出数据的格式是()
填空题衬底偏置电压会影响MOS器件的阈值电压,反向偏置电压增大,则MOS器件的阈值电压也随之增大,这种效应称为()
填空题MOS场效应晶体管分为四种基本类型:()、()、P沟增强型、P沟耗尽型。
填空题CMOS的英文全称是()
填空题在放大模式偏置下,双极型晶体管的EB结(),CB结反向偏置。
填空题pn结有电容效应,分为()
填空题电子在热运动时不断受到晶格振动和杂质的散射作用,因而不断地改变运动方向。半导体中的主要散射机构是()
填空题晶体中电子的能量状态是()的。电子在各状态上的分布遵守()分布规律。
填空题施主杂质电离后成为不可移动的带正电的施主离子,同时向导带提供电子,使半导体成为电子导电的()型半导体。受主杂离后成为不可移动的带负电的受主离子,同时向价带提供空穴.使半导体成为空穴导电的()型半导体。
填空题半导体材料中锗和硅属于()结构,砷化镓属于()结构。