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单项选择题

A.取下腭杆B.腭杆组织面缓冲C.腭杆组织面加自凝树脂重衬D.不做任何处理E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型……

A1型题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()

A.取下腭杆
B.腭杆组织面缓冲
C.腭杆组织面加自凝树脂重衬
D.不做任何处理
E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

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