A.脱水烘烤B.旋转涂布法涂HMDSC.气拍涂底法涂HDMSD.软烘
多项选择题根据曝光模式，光制机的种类分为（）。
A.接触式曝光B.接近式曝光C.扫描式曝光D.投影式曝光
多项选择题刻蚀的过程中，对刻蚀的要求是（）
A.图形的保真度高B.选择比越接近1：1越好C.均匀性好D.晶圆表面的洁净
多项选择题以下属于刻蚀环节质量要求的是（）
A.均匀性好B.图形保真度高C.选择比低D.洁净度高
多项选择题最常用的砷化镓的湿法刻蚀腐蚀液包括（）
A.硫酸B.氢氟酸C.双氧水D.去离子水
单项选择题（）可以通过带电粒子在盛场作用下做运动把粒子进行筛选，挑选出唯一需要注入的离子。
A.离子源B.磁分析器C.加速管D.终端系统
