A.1 B.12 C.123 D.12345
单项选择题以文件名形式查找文件的命令参数为()
A.-name B.-size C.-atime D.-mount
单项选择题帮助命令为()
A.man B.more C.mv D.men
单项选择题采用%chmod700file1命令更改文件权限,更改后的文件权限为()
A.rw-r--r-- B.rwxr----- C.rwx------ D.---rwxrwx
单项选择题当执行%who操作时,可以得到什么信息?()
A.当前用户的登录标识。 B.显示主计算机名称。 C.显示用户的系统标识。 D.显示当前目录。
单项选择题选择描述正确的语句()
A.UNIX是著名的多用户、多进程、多任务的分时操作系统。 B.UNIX是著名的单用户、多进程、多任务的分时操作系统。 C.UNIX是著名的多用户、单进程、多任务的分时操作系统。 D.UNIX是著名的多用户、多进程、单任务的分时操作系统。
判断题通常湿法刻蚀的刻蚀轮廓比干法刻蚀好。
判断题先进集成电路加工中,主要采用投影式光刻曝光技术。
判断题在现代集成电路加工技术中,主流的掺杂技术是扩散掺杂。
判断题离子注入是集成电路制造中最为重要的工序。
判断题集成电路制造与集成电路设计相关纽带是光刻掩膜版。
判断题NMOS源漏城需进行N+型掺杂。
判断题NMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。
判断题PMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。
判断题集成电路制造需要在告别净化环境下进行,通常净化室内气压应高于净化室外气压。
判断题集成电路制造需要在告别净化环境下进行,而光刻区对净化级别要求最高,如普通制造环境为1000级,则光刻区的净化环境则为10000级。