目的：使待注入的物质以带电粒子束的形式存在 最常用的源：Freeman离子源和Bernas离子源
问答题例举离子注入设备的5个主要子系统。
问答题例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
问答题例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
问答题什么是结深？
问答题什么是掺杂？例举四种常用的掺杂杂质并说明它们是n型还是p型？
